MADRID, 24 Feb. (Portaltic/EP) -
Samsung Electronics ha anunciado el comienzo de la producción masiva de su nueva línea de fabricación de semiconductores con tecnología de litografía ultravioleta extrema (UVE) y nodos de procesado de 7 nanómetros (nm) o menos.
La instalación V1 se ubica en Hwaseong (Corea del Sur) y es la primera línea de producción de semiconductores de Samsung dedicada a la tecnología de litografía ultravioleta extrema (UVE), como explica la compañía en un comunicado.
La línea V1 se abrió en febrero de 2018 y comenzó a implantar la producción de obleas de pruebas en la segunda mitad de 2019. Sus primeros productos llegarán al mercado en los próximos meses.
Actualmente, está produciendo chips móviles de última generación con tecnología de procesado de 7 y 6nm, y continuará adoptando circuitería más fina hasta llegar a nodos de procesado de 3nm.
Para finales de 2020, la inversión total acumulada en la línea V1 alcanzará los 6.000 millones de dólares, de acuerdo con el plan de Samsung, y se espera que la capacidad total de nodos de procesado de 7nm e inferiores sea tres veces mayor a la de 2019.
Con la línea V1 en funcionamiento, Samsung ahora tiene seis líneas de producción de fundición en Corea del Sur y Estados Unidos, incluidas cinco líneas de 12 pulgadas y una línea de 8 pulgadas.